迫りくるAI時代に向けた 半導体製造プロセスの今 情報機構

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情報機構
発刊  2019年5月27日  
定価  54,000円 + 税 体裁  
B5判 259ページ

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半導体製造が人工知能の隆盛で変わる! 最先端LSI技術への取組と各製造工程のポイントを詳説!
★AI技術の躍進で活用の幅が広がる半導体、最新技術動向を知る! ディープラーニング等人工知能への利用に求められる半導体デバイスとは?AIへの搭載を考えたとき製造プロセスには何が求められるのか?最新の装置動向は? ★3D-NAND や FOWLP、微細化への動きなど最新プロセスを網羅 高性能化へ向けた技術進歩をしっかり解説!現時点で技術はどこまで進んでいるのか? ★AI・データ科学による半導体製造プロセスの革新 製造プロセスへのAI活用は?検査へのデータ科学の活用は?スマートマニュファクチャリングとは?開発スピードがはやまる中、従来通りのやり方では追い付けない!新しい考えを導入して新時代に備えよう ★各製造プロセスの実務ポイント、最新動向もしっかりおさえる ALD成膜やEUV・DSA・NIL、原子層エッチングから枚葉式洗浄等最新技術を網羅!品質向上に向けた成膜のポイントは?CMP・研磨のポイントは?パターン倒壊を防ぐ洗浄とは?3次元集積の課題とは?実務で必要な各プロセスの重要事項も解説! ★東京エレクトロン、東芝メモリ、NVIDIA他時代の先端を走る各社が執筆!半導体製造プロセスの今を知ろう★

執筆者一覧(敬称略) ●厚木エレクトロニクス 加藤俊夫 ●東京エレクトロン(株) 鄭基市 ●グローバルウェーハズ・ジャパン(株) 須藤治生 永井勇太 泉妻宏治 ●NVIDIA 馬路徹 ●産業技術総合研究所 原史朗 ●ソメイテック 大薗剣吾 ●PICOSUN JAPAN(株) 八尋大輔 ●大阪大学 遠藤政孝 ●(株)日立製作所 篠田和典 ●(株)ISTL 礒部晶 ●茨城大学 周立波 ●オフィスシラミズ 白水好美 ●東芝メモリ(株) 柿沼英則 ●東芝メモリ(株) 江澤弘和 ●イーヴィグループジャパン(株) 山本宏 ●芝浦工業大学 二川清 ●オムロン(株)中村芳行

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